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C掺杂Fe-Si半导体颗粒膜的合成及性能表征
所属行业:
新材料
项目简介:
beta-FeSi2是重要的窄带隙半导体硅化物,但难以制备高质量的单晶薄膜。本项目利用离子束混合FeSi/Si多层膜的方法制备掺杂的beta-FeSi2颗粒膜。系统研究制备颗粒膜和掺杂的工艺,对合成薄膜的微观结构和掺杂的机理进行深入研究,同时观测掺碳颗粒膜的光电性能,从而建立制备工艺、结构和性能三者之间的关系,不断改善颗粒膜的质量,最终制备高性能薄膜,为beta-FeSi2广泛应用于光电领域打下良好基础。
联系人:
李晓娜  
电话:
84708958
单位名称:
大连理工大学 翟鸣宇
合作方式:
合资  
地址:
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网 址:

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